国望光学研发生产基地位于北京经济技术开发区，规划建筑面积12万平方米，预计2023年投入运行后，将拥有350/280nm节点、90/110nm节点、28nm及以下节点极大规模IC制造投影光刻机曝光光学系统产品的研发、设计与批量生产供货能力。国望光学基本定位是建立我国自主的超精密光学产业技术研发与生产体系，形成极大规模IC制造投影光刻机曝光光学系统、高端精密光学仪器与装备的批量生产供货能力，从根本上解决我国IC制造投影光刻机曝光光学系统及高端精密光学装备的产业化问题。